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1 Chemical Vapour Deposition
Nuclear physics: CVDУниверсальный русско-английский словарь > Chemical Vapour Deposition
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2 Liquid Phase Chemical Vapour Deposition
Electronics: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > Liquid Phase Chemical Vapour Deposition
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3 Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition
Abbreviation: PECVDУниверсальный русско-английский словарь > Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition
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4 electron-beam physical vapour deposition
Nanotechnology: EB-PVDУниверсальный русско-английский словарь > electron-beam physical vapour deposition
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5 metal organic chemical vapour deposition
Foreign Ministry: MOCVDУниверсальный русско-английский словарь > metal organic chemical vapour deposition
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6 modified chemical vapour deposition
Cables: MCVDУниверсальный русско-английский словарь > modified chemical vapour deposition
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7 outside vapour deposition
Cables: OVDУниверсальный русско-английский словарь > outside vapour deposition
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8 physical vapour deposition
Foreign Ministry: PVDУниверсальный русско-английский словарь > physical vapour deposition
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9 thermal-evaporation physical vapour deposition
Foreign Ministry: TE-PVDУниверсальный русско-английский словарь > thermal-evaporation physical vapour deposition
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10 vapour phase axial deposition
Cables: VADУниверсальный русско-английский словарь > vapour phase axial deposition
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11 low-pressure chemical vapor deposition
1) Microelectronics: low-pressure chemical vapour deposition2) Makarov: LPCVDУниверсальный русско-английский словарь > low-pressure chemical vapor deposition
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12 organometallic chemical vapor deposition
Microelectronics: organometallic chemical vapour deposition, OMCVDУниверсальный русско-английский словарь > organometallic chemical vapor deposition
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13 Abscheidung aus der Gasphase
Deutsch-Englisches Wörterbuch > Abscheidung aus der Gasphase
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14 buharlı depozisyon
vapour deposition -
15 осаждение из паровой фазы
1) Engineering: evaporation deposition, evaporative deposition, gas deposition, vapor deposition, vapor-phase deposition2) Electronics: settling, vapor platingУниверсальный русско-английский словарь > осаждение из паровой фазы
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16 PVD
physical vapor deposition — осаждение из паровой фазы; ОПФphysical vapour deposition — осаждение ( покрытий) из газовой фазы -
17 осаждение из газовой фазы
1) Engineering: evaporation deposition, evaporative deposition, gas deposition, vapor deposition, vapor-phase deposition2) Electronics: settling, vapor plating3) Cables: vapour deposition4) Makarov: gas-phase depositionУниверсальный русско-английский словарь > осаждение из газовой фазы
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18 CVD
chemical vapor deposition — химическое осаждение из газообразного состояния вещества на подложку ( метод роста кристаллов из газовой фазы)chemical vapor deposition — химическое осаждение из паровой фазы, нанесение твёрдого покрытия парообразными химическими соединениями (напр., парами карбидов хрома и титана) -
19 парофазное осаждение
1) Chemistry: vapour deposition2) Silicates: vapor deposition (в производстве оптического стекловолокна), vapor-phase deposition (в производстве оптического стекловолокна)Универсальный русско-английский словарь > парофазное осаждение
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20 химическое осаждение из паровой фазы
1) Engineering: (газовой) chemical vapor deposition, chemical vapor deposition2) Electronics: chemical vapor plating3) Microelectronics: cvd, chemical vapour depositionУниверсальный русско-английский словарь > химическое осаждение из паровой фазы
См. также в других словарях:
vapour deposition — užgarinimas statusas T sritis fizika atitikmenys: angl. evaporation; vapor deposition; vapour deposition vok. Aufdampfung, f; Bedampfung, f rus. нанесение испарением, n pranc. dépôt en phase vapeur, m … Fizikos terminų žodynas
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Physical vapour deposition — Der Begriff physikalische Gasphasenabscheidung (englisch physical vapour deposition, kurz PVD) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien, bei denen im Gegensatz zu CVD Verfahren die Schicht… … Deutsch Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Plasma enhanced chemical vapour deposition — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD),… … Deutsch Wikipedia
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition — Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition, PECVD or sometimes PCVD, is the process by which chemicals are deposited onto a substrate using a Radio Frequency (RF) Plasma to split the precursors into active ions.TheoryPrecursor chemical enter the… … Wikipedia
Metalorganic vapour phase epitaxy — (MOVPE), also known as organometallic vapour phase epitaxy (OMVPE) or metalorganic chemical vapour deposition (MOCVD), is a chemical vapour deposition method of epitaxial growth of materials, especially compound semiconductors from the surface… … Wikipedia
Electron beam induced deposition — (EBID) is a process of decomposing gaseous molecules by electron beam leading to deposition of non volatile fragments onto a nearby substrate. Process Focused electron beam of scanning electron microscope (SEM) or scanning transmission electron… … Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Combustion chemical vapor deposition — (CCVD) is a chemical process by which thin film coatings are deposited onto substrates in the open atmosphere. Contents 1 History 2 Principles and procedure 3 Remote combustion chemical v … Wikipedia
